株式会社東北テクノアーチ 【東北大学技術】均一な残膜が得られる光ナノインプリント方法
- 最終更新日：2023-01-18 14:11:03.0
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nm～μmサイズが混在しパターンの粗密がある構造体を精密に製造可能！
紫外線ナノインプリントリソグラフィ（UV-NIL）は、コストや
スループットの観点から、工業的に受け入れられるナノ加工技術
として注目されている一方で、後工程であるリソグラフィの
プロセスが困難になってしまいます。
本発明の光ナノインプリント法は、マイクロスケールのレーザー
加工孔版印刷とナノスケールの有型光造形から構成。
1～300 Pa ･sの高粘度な光硬化性樹脂を、レーザー加工で作製した
貫通孔を持つポリイミドシートを孔版に用いて孔版印刷により
光硬化性樹脂の液滴を基板上に配置することができます。
線幅45nmのレジストパターンとシリコンパターンの作製に成功しています。
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