テルモセラ・ジャパン株式会社スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

最終更新日：2024-10-12 15:57:47.0
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

【フレキシブルシステム】
MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。

【スモールフットプリント・省スペース】
・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm
・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。

テルモセラ・ジャパン_MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置掲載ページ

基本情報スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】
◉ 製作範囲
抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE）
◉ チャンバー
・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch
・060（60Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ8inch
・080（80Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch
・090（90Litter）*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch
・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD：MaxΦ12inch

※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。

価格情報	- お気軽にお問い合わせください。
納期	お問い合わせください ※お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例	主な用途・新素材/新材料の開発・先端技術開発・小規模試作生産など

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詳細情報スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

: MiniLab-026-TE/LTE/SP
MiniLabシリーズ最小の、19inchシングルラックフレームスタンドアロン型薄膜実験装置。幅600 奥行き600の最小設置スペースの小型サイズに、TE（抵抗加熱蒸着）、 LTE（有機薄膜蒸着）、 SP（スパッタリング）実験が可能。小型ながらPID自動ループ成膜コントロール（手動も可）、同時成膜も可能。

: MiniLab-026-GB（グローブボックス収納型）
MiniLab-026チャンバーを作業ベンチ内に設置、制御ユニットをベンチ下に収納したグローブボックスモデル。

: MiniLab-026-Etch/Anneal Station
MiniLab-026チャンバーに、RFドライエッチングステージ・基板加熱ステージを搭載した装置。全てをMiniLabシリーズ19inchラックフレームに収納したスタンドアロン、グローブボックス収納したMiniLab-026-GBの応用型の2機種。マンチェスタ大学グラフェンGrとの共同開発品。独自の30W以下での低ダメージ・制御精度に優れたRIEシステムとの組合せでTMDC・2D開発に寄与します。

: MiniLab-060-TE/LTE/EB/Sputtering装置
『MiniLab-060』シリーズは、豊富なコンポーネントをモジュラー式に組み込むことにより、TE（抵抗加熱蒸着）、LTE（低温有機膜蒸着）、EB蒸着、RF/DCマグネトロンスパッタなどの幅広い目的に構成することができるR&D用装置です。上下昇降/基板回転/加熱・冷却ステージ・ロードロックなどのオプションも豊富。（写真は6 pockets蒸着源を搭載したEBモデル）

: MiniLab-060 PECVD装置
『MiniLab-060-PECVD』は、4系統までのガスライン、 RF/DC電源ユニット, 基板加熱・回転ステージ（Max1200℃）を搭載したセミオート式プラズマCVD専用機。60L容積チャンバーに、RP（DP）+TMP搭載した高真空仕様に対応、安定したPLC/MFCによる真空・ガス圧力自動制御が行えます。ウエハーサイズ1～8inchまでの成膜実験が可能です。

: MiniLab-080-TE/LTE/SP
ボックス型チャンバー：チャンバー高さ570mm、80リットル大型チャンバーにロードロック機構を追加できるMiniLab-060の上位機種。T/S距離調整幅が長く膜均一性の向上に寄与。

: MiniLab-090（*グローブBox収納型）
400x400x570の大型80L大容積チャンバーを作業ベンチ内に収納したMini-Lab-080のグローブボックスモデル。スライドドア開閉フロントローディング式、チャンバー背面からアクセスできるメンテナンス用ドア、大チャンバーながら作業ベンチを最大限活用した省スペース・ハイスペックモデル。真空蒸着・スパッタ・RFエッチなど多目的に使用いただけます。プロセス処理後のサンプルを大気・水分に露出せずクリーンな薄膜実験が可能です。

: MiniLab-125
大型大容積チャンバー（500x500x600mm）にMiniLabシリーズ全てのオプション搭載可能。研究開発から小規模生産用途までカバーするMiniLabシリーズの最上位ハイエンドモデル。ロードロックシステム・オートマスクチェンジャー・プラネタリードームなどのオプションが豊富。