テルモセラ・ジャパン株式会社スパッタリング装置『MiniLab-060』

最終更新日：2024-10-12 16:08:07.0
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・電子ビーム蒸着
・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2）
・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能

【スモールフットプリント・省スペース】
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。

テルモセラ・ジャパン_MiniLab-060掲載ページ

基本情報スパッタリング装置『MiniLab-060』

【主仕様】
・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー
*ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・最大基板サイズ：Φ8inch
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc)
・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源
・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２
・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構

価格情報	本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。
納期	お問い合わせください ※本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。
型番・ブランド名	MiniLab-S060
用途／実績例	大学・企業研究室での各種基礎実験用途・光学薄膜・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜他