テルモセラ・ジャパン株式会社 真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。
・最大基板サイズ:Φ10inch
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源
・有機蒸着源 x 最大4源
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)
・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング
・CVD(熱CVD, PECVD)

*プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能

基本情報真空蒸着装置『MiniLab-080』

【主仕様】
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可)
・真空排気:真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源)
・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8)
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源
・プロセス制御:手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4
・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構

価格情報 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。
納期 お問い合わせください
※本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。
型番・ブランド名 MiniLab-080
用途/実績例 大学・企業研究室での各種基礎実験用途
・光学薄膜
・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜

カタログ真空蒸着装置『MiniLab-080』

取扱企業真空蒸着装置『MiniLab-080』

iPROS_Thermocera-image-2.jpg

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

真空蒸着装置『MiniLab-080』へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』 が登録されているカテゴリ