メトロームジャパン株式会社 【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインライン近赤外分析計でモニタリング!

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。
試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法(NIRS)によるインライン分析が有効です。
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基本情報【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

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型番・ブランド名 インラインNIR分析計
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カタログ【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

取扱企業【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

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メトロームジャパン株式会社

● 電位差自動滴定装置 ● カールフィッシャー水分計 ● イオンクロマトグラフ ● 近赤外分光分析計 ● ラマン分光計 ● pH計 導電率計 ● イオン計 ● 酸化安定性試験装置 ● ボルタンメトリー(VA) ● CVS分析計 ● 電気化学測定装置(ポテンショスタット/ガルバノスタット) 【装置は3年間保証】 【アクセサリ/消耗品は製造終了後10年間保証】 【ソフトウェアは装置製造終了後5年間サポート保証】 【アニオンサプレッサは10年間保証】

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