分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！
蒸着のしくみについてご紹介いたします。
「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで
加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。
河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。
お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者及び従業員一同が一体となり
情報提供し合いながら、品質の安定した安全性の高い製品づくりに
取り組んでいます。
当社のホームページでは、“スパッタのしくみ”や“光学膜のしくみ”なども
解説しています。詳しくは下記の関連リンクよりご覧ください。
【真空蒸着概要】
■1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させる
■発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報【蒸着技術詳細】蒸着のしくみ
【保有設備】
■分光光度計
■干渉計
■マイクロスコープ
■レーザー顕微鏡
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ【蒸着技術詳細】蒸着のしくみ
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