株式会社べスタクト・ソリューションズ【採用事例】FA機器の制御にベスタクトリレー

最終更新日：2024-12-20 11:21:34.0
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高頻度の開閉を必要とするFA機器用のリレーに、長寿命性と安定した接触抵抗で選ばれるベスタクトリレーです！

・FA機器の制御盤で使用されるリレーで課題となっている短寿命や接触不良を解決
・交換頻度が減ることにより設備のランニングコストの低減と昨今の部材調達リスクを低減
・長寿命で高信頼性が求められる鉄道や電力、鉄鋼で活躍する製品技術を生かしたFA市場向けリレー

■FA機器採用事例１
電磁バルブの開閉制御用リレーへ採用されています。採用前は、電磁バルブ開放時のサージ電圧対策のために保護開路が必要で、一般リレーの接触不良により電磁バルブが不作動になっていました。そこでベスタクトリレーが採用され、保護開路を用いずに直接電磁バルブの開閉制御ができるようになりました。また接触不良が改善されて、電磁バルブの安定稼働につながっています。

■FA機器採用事例２
野菜工場の野菜台座の運搬用途リニアモータの切り替えリレーへ採用されています。採用前はリレーの開閉頻度が高いため3か月毎に交換しており、湿度の高い悪環境により接触不良も発生していました。そこでベスタクトリレーが採用され、機械的寿命と接触不良が大幅に改善されました。交換周期が大幅に延び、メンテナンスコストの低減にもつながっています。

2極/3極リレー FA2PE20型（大容量型） FA3PE21型（大容量型）

基本情報【採用事例】FA機器の制御にベスタクトリレー

40年以上鉄道や電力、鉄鋼分野で培ってきた技術を活かした製品で、FA市場の制御盤のリレーで課題となる短寿命や接触不良を解決します。交換頻度を減らすことによる設備ランニングコストと部品調達リスクの低減を実現し、“リレーの不具合では止まらない設備”という価値を提供します。

形式：FA3PE21およびFA3PE20
■接点仕様
接点構成
：2a1b（形式FA3PE21）
：2a（形式FA3PE20）
接触抵抗：500mΩ以下
定格使用電圧/電流：110VDC　0.5A / 220VAC 1.0A
最大通電電流：5A
定格絶縁電圧：250VAC
最小使用電圧/電流：24VDC　1mA
■時間仕様
動作：40ms以下
復帰：40ms以下

■接点寿命
機械的寿命：1億回以上
電気的寿命：300万回以上(24VDC 0.5A L/R=10ms)

■その他
故障率（λ60）：4.6×10⁻⁹（/回）以下
単体質量：120g
使用周囲温度：-10℃~+60℃
接続方法：外部接続用ソケット (TP38X, TP38S)

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください ※※数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	FA3PE21,FA3PE20
用途／実績例	FAシステム内での様々な機器の制御用リレーにご使用いただけます。現在ご使用のリレーを長寿命なベスタクトリレーに置き換えることで、リレーの交換頻度を下げ、メンテナンスコストの低減にお役立ちいたします。長くお使い頂けるため、昨今の部品不足の状況にも理想的なリレーです。長寿命と高信頼性を実現している内蔵接点「ベスタクト」の詳細に関しましては、「安川パワーリードスイッチベスタクト"Bestact"（総合カタログ）」をご確認ください。

ラインナップ

型番	概要
FA2PE20型	接点構成：2a
FA3PE21型	接点構成：2a1b

詳細情報【採用事例】FA機器の制御にベスタクトリレー

: この製品には安川パワーリードスイッチベスタクトが内蔵されています。
弊社の製品は、高い信頼性、安全性が要求される市場において、長年にわたりお客様にその製品価値を認めて頂いております。
そんな弊社製品を長寿命で高信頼性にするコア技術である「ベスタクト」をご説明する資料を準備しておりますので、カタログ「【資料】リードスイッチとは？」をぜひご覧ください。

カタログ【採用事例】FA機器の制御にベスタクトリレー

取扱企業【採用事例】FA機器の制御にベスタクトリレー

株式会社べスタクト・ソリューションズ

弊社は、（株）安川電機の100%出資のグループ会社で、ベスタクト制御機器(安川パワーリードスイッチ「ベスタクト」を内蔵したリレー、センサー)を設計、製造、販売しております。1978年以来、高信頼性・高耐久性を特長としたベスタクトリレーやベスタクトセンサー製品をお客様へ提供し、鉄道市場をはじめ人々の安全・安心へ長年貢献してまいりました。長年培ってきた製品の信頼性に満足せず、今後もワールドワイドに貢献してまいります。 ※ベスタクト事業強化のため、安川コントロール(株)よりベスタクト事業分離、2018年9月新会社設立。