株式会社三明 PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現!GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹介

当社が取り扱う『PECプロセス装置』をご紹介します。

光源・波長はUVA、UVCから選択でき、エッチング溶液加熱により
高速な深堀エッチングが可能。

タッチパネル入力でエッチングリンスをパラメータ設定できます。
ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■10mm□小片チップからφ6インチウェハ
■GaN 低ダメージエッチングが可能
■シンプル構造で低価格を実現
■高速な深堀エッチング可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報PECプロセス装置

【仕様】
■型式:PEC-6
■エッチング方式
 ・Photo-Electro Chemical:光電気化学
■適応ワーク:□10mm小片チップ、φ2~6インチ
■UVA光源:超高圧水銀灯315~400nm 15mW/sm2以上
■UVC光源:プラズマ光源220~320nm 12mW/sm2以上
■薬液供給:2ノズルエア圧縮方式エッチング液、リンス液
■外形寸法:1470(H)×650(W)×750(D)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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カタログPECプロセス装置

取扱企業PECプロセス装置

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株式会社三明 本社/静岡市、支店/東京・沼津・中部・大阪、営業所/横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸

産業用電機品・ロボット・制御装置・FAシステム・サーボ 半導体製造ラインの販売、電気計装工事の設計・施工。 自動化システムの総合メーカーとして事業展開。 (株)安川電機代理店。

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