メトロームジャパン株式会社 【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析
- 最終更新日：2023-03-06 09:28:14.0
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半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)をモニタリング！
水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)は、主に集積回路（IC）、プリント基板（PCB）、フラットパネルディスプレイ（LCD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。
この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。
現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げるためにはこの工程を最適化しなければなりません。このプロセスアプリケーションノートでは、オンラインプロセス滴定により現像液中のTMAH濃度をモニターする方法を紹介します。
基本情報【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析
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| 型番・ブランド名 | プロセス分析計 |
| 用途／実績例 | 冊子は無料ダウンロードできます。 |
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● 電位差自動滴定装置 ● カールフィッシャー水分計 ● イオンクロマトグラフ ● 近赤外分光分析計 ● ラマン分光計 ● pH計 導電率計 ● イオン計 ● 酸化安定性試験装置 ● ボルタンメトリー（VA） ● CVS分析計 ● 電気化学測定装置（ポテンショスタット/ガルバノスタット） 【装置は3年間保証】 【アクセサリ/消耗品は製造終了後10年間保証】 【ソフトウェアは装置製造終了後5年間サポート保証】 【アニオンサプレッサは10年間保証】
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