株式会社東レリサーチセンター 技術情報誌 202102-03 XAFSによる半導体中の状態評価

基本情報技術情報誌 202102-03 XAFSによる半導体中の状態評価

技術情報誌The TRC News「XAFSによる半導体中の微量ドーパントの状態評価」
【要旨】
半導体へのドーパント添加は、電気特性を制御する上で非常に重要な技術であり、添加によるキャリア発生のメカニズムは固体物理の理論に基づいて理解されているが、ドーパント元素における直接的な化学状態や配位環境の評価事例は少ない。元素ごとの状態評価は、XAFSにより可能であるが、近年の検出器の感度向上などにより、微量のドーパント元素の化学状態や配位環境を感度よく観測できるようになってきた。本稿では、XAFS を用いたシリコン半導体に含まれるヒ素およびリンの状態評価の事例を紹介する。
【目次】
１．はじめに
２．分析試料および実験手法
３．シリコン中のヒ素のXAFS評価
４．シリコン中のリンのXAFS評価
５．おわりに
【図表】
図１　As K端XANESスペクトル
図２　As K端FT-EXAFSスペクトル
表１　As K端FT-EXAFSカーブフィッティング結果
図３　アニールありおよびアニールなしにおけるヒ素の状態および周囲構造のイメージ
図４　P K端XANESスペクト

• お問い合わせ

取扱企業技術情報誌 202102-03 XAFSによる半導体中の状態評価

株式会社東レリサーチセンター

■受託分析 ・分析対象：半導体・実装、ディスプレイ・プリンター、電池・エネルギー、自動車、工業材料、環境、ライフイノベーション、医薬、バイオ ■受託調査 ・調査対象：化学・材料、環境・エネルギー・ライフサイエンス、その他 ■教育事業 ・分析基礎講座：分光分析、顕微鏡、物性分析、医薬分析、クロマトグラフィー、有機分析、発生ガス、電池、実習付き講座等 ■製品販売 ・ピンポイント濃縮プレート

TEL・住所

• この企業の製品・サービス一覧を見る(68件)

• 公式サイト