株式会社アークステーション 光干渉式膜厚測定装置『Model3100』
- 最終更新日：2024-05-23 17:15:34.0
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『Model3100』は、受光素子にリニアアレー素子を採用し、
高速測定を実現した光干渉式膜厚測定装置です。
スペクトル解析ソフトを標準搭載することにより、多層膜(通常3層まで)の
同時測定および光学定数(n,k)の測定が可能。
各種膜特性に適合したきめ細かなパラメータの設定ができ、より豊富な
各種膜構造の膜厚測定ができます。
【特長】
■高感度高分解能ヘッド(オプション)にて酸化膜換算で70μmまで測定可能
■100倍レンズ(φ0.75μmの微小スポット)も使用可能
■プロセスに適合した特殊膜測定用のプログラム設定が容易に実現可能
■さまざまなアプリケーション(磁気ヘッド、FPD、材料研究等)に対応し、
用途別に試料台作成可能(オプション)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報光干渉式膜厚測定装置『Model3100』
【基本仕様(抜粋)】
＜型式：3100(標準ヘッド)＞
■測定プログラム：基板材質を選ばず多層膜(通常3層膜まで)の測定が可能
■測定波長範囲：380～800nm
■膜厚測定範囲：100Å～30μm(膜厚による)
■測定再現精度：2Å(同一ポイント15回測定時の1σ)※膜厚による
■測定時間：0.1～25秒/1ポイント
■対物レンズ(スポットサイズ)：5倍(φ50μm)
■対物レンズオプション：10倍(φ25μm)、50倍(φ5μm)
■装置構成：可視光、フォログラフィック凹面回折格子、リニアアレー素子
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ光干渉式膜厚測定装置『Model3100』
取扱企業光干渉式膜厚測定装置『Model3100』
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各種産業機器や半導体製造における前工程、後工程、実装工程等の検査・分析装置に従事した経験豊富なエンジニアが在籍しており、テクニカルサポートに注力したエンジニア専門会社として発足致しました。また、今期より、装置販売事業にも注力致します。
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