Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社 半導体装置『BATCHSPRAY Acid Autoload』
- 最終更新日：2024-07-12 10:02:24.0
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この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。
高い精度のタンク内における化学物質の混合、エンドポイント検出（EPD）、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。さらに、SicOzoneレジストストリップを同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上するだけでなく、処理ステップを減らすこともできます。
【特長】
■最大300wphのスループット
■2つのプロセスチャンバー
■ばらつきが1％未満の均一性
■設置面積12m2未満
■タンクシステムによる化学物質の再循環
■sic/GaNでプロセス実行可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報半導体装置『BATCHSPRAY Acid Autoload』
【取扱製品】
■BATCHSPRAY Clean Autoload
■BATCHSPRAY Acid Autoload
■BATCHSPRAY Solvent Autoload
■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload
■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload
■BATCHSPRAY Acid
■BATCHSPRAY Solvent
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ半導体装置『BATCHSPRAY Acid Autoload』
取扱企業半導体装置『BATCHSPRAY Acid Autoload』
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Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社
【取扱製品】 ■BATCHSPRAY Clean Autoload ■BATCHSPRAY Acid Autoload ■BATCHSPRAY Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload ■BATCHSPRAY Solvent ■BATCHSPRAY Acid
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