高性能低GDD 超短パルス用ミラーエドモンド・オプティクス・ジャパン

設計波長域でほぼゼロの群遅延分散(GDD)があり、反射ビームの分散を最小化！

『高性能低GDD 超短パルス用ミラー』は、0°か45°の入射角で高い
反射率が得られるようにデザインされ、ウルトラファストレーザーを用いた
ビームステアリングアプリケーションに好適な製品です。

このミラーは、精密なIBS(イオンビームスパッタリング)蒸着工程を経て
得られた分散補償コーティングを有し、従来の誘電体膜レーザーミラー
よりも低散乱・低吸収特性が得られます。

本ミラーの代表的用途に、フェムト秒レーザーのパルス伝播時での
使用があります。

【特長】
■超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
■イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
■設計波長域で0±20fs2までの低GDD

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関連リンク - https://www.edmundoptics.jp/f/high-performance-low…

基本情報高性能低GDD 超短パルス用ミラー

【共通仕様】
■基板：Fused Silica(Corning 7980)

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カタログ高性能低GDD 超短パルス用ミラー

取扱企業高性能低GDD 超短パルス用ミラー

エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社

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