ジオマテック株式会社 有機ELデバイス向け『FLAT ITO膜』

基本情報有機ELデバイス向け『FLAT ITO膜』

■特徴・強み
・なめらかな表面
結晶粒径をコントロールして平坦な膜を実現

・研磨の必要がない
膜を研磨して平滑にするプロセスを削減、コストと歩留まりを改善

■仕様
・優れたパターニング性と抵抗値
ドメイン構造が均質で、きれいなパターニングエッジに仕上がります。また、ITO膜と同等の低い抵抗値を実現しました。

※詳細仕様については、製品カタログをダウンロードください。

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カタログ有機ELデバイス向け『FLAT ITO膜』

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取扱企業有機ELデバイス向け『FLAT ITO膜』

ジオマテック株式会社

■フラットパネルディスプレイ用基板（液晶ディスプレイ用基板、EL用基板） ■光学機器用部品 ■固体レーザー用光学系部品 ■その他真空成膜製品の製造及び販売他 ジオマテックでは、お客様のニーズに合わせた真空成膜製品をご提供するため、基板となる素材の知識はもちろん、薄膜設計や光学設計技術、材料データや洗浄技術、また成膜プロセス技術やエッチングなどの処理技術、加工後の機能・品質を確保するための検査から測定技術など、すべての要素・技術ノウハウを蓄積しています。私たちは、これらの技術を総合的に積み重ね、進化させながらお互いを組み合わせることで、お客様のニーズに対応できるよう活動を続けています。

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