高真空による低温乾燥が可能
真空棚式乾燥機は内部に加熱用熱盤を設け、乾燥物を入れた容器を熱盤上に載せ、機内を減圧して静置の状態で、下からの伝導加熱と上からの放射で乾燥を行う装置です。
排気は真空ポンプにより機外へと排出されます。
高真空下での乾燥が容易のため、製品許容温度が低い乾燥物に最適です。
基本情報真空棚式乾燥機
【特徴】
■高真空下の低温乾燥が可能です。
■溶剤等の回収が容易に出来ます。
■密閉構造で可動部がなくコンタミ発生がありません。
■内部洗浄が容易のため乾燥物切り替えが簡便に行えます。
※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ○医薬品 〇健康食品 ○工業薬品 ○食品 ○染料 等 |
カタログ真空棚式乾燥機
取扱企業真空棚式乾燥機
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