日本乾燥機株式会社
最終更新日:2024-06-14 17:13:48.0
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高真空下の低温乾燥が可能
真空棚式乾燥機は内部に加熱用熱盤を設け、乾燥物を入れた容器を熱盤上に載せ、機内を減圧して静置の状態で、下からの伝導加熱と上からの放射で乾燥を行う装置です。排気は真空ポンプにより機外へと排出されます。高真空下での乾燥が容易のため、製品許容温度が低い乾燥物に最適です。
真空棚式乾燥機は内部に加熱用熱盤を設け、乾燥物を入れた容器を熱盤上に載せ、機内を減圧して静置の状態で、下からの伝導加熱と上からの放射で乾燥を行う装置です。排気は真空ポンプにより機外へと排出されます。高真空下での乾燥が容易のため、製品許容温度が低い乾燥物に最適です。 (詳細を見る)
乾燥機の設計、製造、販売
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