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真空中で加熱(最大温度:180℃)・冷却(最低温度:-20℃)しながら…
る。熱伝導率の高いステンレス鉢にも対応。 ・外部循環液により、-20℃~180℃までの加熱・冷却を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・処理中も擂潰物の確認可能な窓を向かって左側に有する。 インバーターを標準装備し、杵の回転数を制御可能。 ■好適使用事例 ・スラリー、ペーストを分散、混練しながら濃縮、乾燥処理が同時にできるので、材料を固まらせることなく細かく粉砕。 ・溶剤を加えたスラ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社石川工場
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【開発品】18ZDEB 加熱型/真空型 真空中で加熱しすりつぶし
■真空中で加熱しながら擂潰(すりつぶし)が可能 ・加熱温度は120…
はそのままで、真空中で加熱しながら擂潰処理ができる。 ・磁器鉢を銅釜で覆い、均一に熱が伝わる機能を有する。 ・200℃までの加熱を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・LED照明を搭載 ・インバーターを標準装備し、杵の回転数を制御可能 【好適使用事例】 ・厚膜材料 金属粉、ガラス粉、無機酸化物などを有機溶剤とともに混合・混練・分散させるインキペーストの製造用途。三本ロールからの ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社石川工場
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加熱しながら溶材を含む材料を撹拌擂潰(すりつぶし)ことができる石川式撹…
耐溶剤性を有する二重のポリエチレンナフタレートカバーで、結露を防止。安全性や擂潰物の飛散防止に配慮。 ・ポリエチレンナフタレートカバーに吸排気口を有し、擂潰雰囲気を変化させることが可能。 ・インバーターを標準装備し、杵の回転数を制御可能。 【好適使用事例】 ・スラリー、ペーストを分散、混練しながら濃縮、乾燥処理が同時にできるので、材料を固まらせることなく細かく粉砕。 ・溶剤を加えたスラリ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社石川工場
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D16SEH 加熱型 卓上型 ステンレス鉢採用で急速加熱が可能
・ステンレス鉢採用により、熱応答性が高くなり、急速加熱により処理が可能…
を採用することにより、均一、かつ短時間で熱が伝わる機能を有する。 ・160℃までの加熱を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・透明なアクリルカバーを有し、安全性や擂潰物の飛散防止に配慮。 ・インバーターを標準装備し、杵の回転数を制御可能。 【好適使用例】 ・スラリー、ペーストを分散、混練しながら濃縮、乾燥処理が同時にできるので、材料を固まらせることなく細かく粉砕。 ・溶剤を加えたスラリー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社石川工場
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