• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 密閉型マイクロスケール CSTR 製品画像

    密閉型マイクロスケール CSTR

    圧力損失が気にならず、加熱冷却が可能!「流せば分かる」フローリアクター…

    室温 ・水素圧力 0.15MPa(ゲージ圧)…絶対圧0.25MPa ・Pd/C使用量 BNB:Pd=100:1(モル比) ・滞留時間(反応時間) 1時間 ■結果 ・TLC分析 メルク社シリカゲル 60F254、UV254nm検出 ・収率 >99%(GC-FID 内部標準法による)※ただし、副生成物の痕跡あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    メーカー・取り扱い企業: マックエンジニアリング株式会社

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