除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法（関係政省令）*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

メーカー・取り扱い企業： キムテック（Kimtech）・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

多孔質シリカゲル「Shinwasorb」

ケイソウ土を元に設計したマクロ多孔質シリカゲル

Shinwasorb（シンワソルブ）は信和化工オリジナルの多孔質シリカ粉末です。ガスクロマトグラフィーで広く使用される白色珪藻土（Chromosorb）をモチーフに、モノリスシリカ技術により設計開発しました。白色珪藻土に近い外見、 物理強度、耐熱性を持っています。こ...

メーカー・取り扱い企業： 信和化工株式会社

ACE HILIC カラム

ACEカラム群に親水性相互作用クロマトグラフィー（HILIC）用HPL…

＜仕様＞ ・固定相フェーズ： ACE HILIC-A (Propietary シリカ) 　　　　　　　　　ACE HILIC-B (Propietary アミノプロピル） 　　　　　　　　　 ACE HILIC-N (Propietary ポリヒドロキシ) ・粒形　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トムシック 本社

ACE C18-PFP　HPLCカラム

C18フェーズにペンタフルオロフェニル（PFP）基を結合したHPLC用…

・C18とPFP（PentaFluoroPhenyl）のフェーズを併せ持つMixedカラム ・極性塩基性物質の分離能UP ・ピーク形状や再現性に欠かせない「ウルトライナート＆ウルトラピュアシリカ」 ・昇温分析にも優れた安定性 ・超低ブリード特性により、UV・LC／MSに最適 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トムシック 本社

FRP製砂濾過装置『HSシリーズ・FFシリーズ』

材質はFRP製！紫外線殺菌装置の前段に設置することで、より効果的な殺菌…

必要流量に合わせ選定致します。 【砂濾過装置仕様（一部）】 ■最大使用圧力：0.39MPa ■最高使用温度：50℃ ■架台材質：SUS304 ■濾材：シリカサンド ※仕様などの詳細は、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： フナテック株式会社 本社