除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法（関係政省令）*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

メーカー・取り扱い企業： キムテック（Kimtech）・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

スケール防止剤『Genesys SI』

高シリカの原水に対応するスケール防止剤！

『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられるシリカ濃度の高い水用 として使用できるスケール防止剤です。 一般的な無機のスケールにも広範囲に使用可能。 炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどにも有効です。 また、優れたスケ...

メーカー・取り扱い企業： エイエムピー・アイオネクス株式会社

スケール防止剤『Genesys LF』

広く効果を発揮する万能型スケール防止剤！

『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられる広範囲に使用できる スケール防止剤です。 無機のスケール防止に有効。 特に、炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止します。 また、膜の洗浄や交換頻度を減少させる事ができ、優れたスケール防止効果で 理想的な回収率での設計、運転を可能にします。 【特長】 ■広く効果を発揮する万能型...

メーカー・取り扱い企業： エイエムピー・アイオネクス株式会社