• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈 製品画像

    キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

    PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

    キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法(関係政省令)*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

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    メーカー・取り扱い企業: キムテック(Kimtech)・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

  • 逆相HPLCカラム『Sunrise』 製品画像

    逆相HPLCカラム『Sunrise』

    長鎖アルキル基を結合!シラノール基を化学した逆相HPLCカラム

    →粒子径:3μm、5μm ○固定相名:C18 オクタデシル基 →炭素含有量:15% →結合相密度:2.1μmol/m² →粒子径:3μm、5μm ○使用pH範囲:pH2~pH8 ○シリカ基材の物性 →比表面積:340m²/g →細孔容積:1.0mL/g →平均細孔径:12nm ○エンドキャッピング:TMS化 [C18-SAC] ○シリカ基材の物性 →比表面積:340...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クロマニック テクノロジーズ

  • HPLCカラム『SunArmor』 製品画像

    HPLCカラム『SunArmor』

    更なる表面処理の進化!驚きの耐アルカリ性を実現したHPLCカラム

    『SunArmor』は、従来のSunniestエンドキャッピングに加え、新規開発のシリル化剤とTMSによる最終エンドキャッピングにより、シリカゲル粒子でありながら驚きの耐アルカリ性を実現したHPLCカラムです。 C18固定相の使用可能な移動相pH範囲は2から12までで、ハイブリットシリカと同等な耐久性を実現しております。 高耐久性N...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クロマニック テクノロジーズ

  • SunShellおよびSunniest PFP&C18 製品画像

    SunShellおよびSunniest PFP&C18

    FPF固定相とC18固定相の合体

    PFP(ペンタフルオロフェニル基)とC18(オクタデシル基)両方を固定相としたカラムです。 SunShell PFP&C18 2.6umカラムはコアシェルシリカ基材 Sunniest PFP&C18 5umは全多孔性シリカ基材...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クロマニック テクノロジーズ

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