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PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…
『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...
メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社
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PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…
バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機
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高性能と使い易さに徹した“多機能パイロライザー”シリーズの最高級機です…
【仕様】 ■温度コントローラー ・過熱防止温度:PY:1100℃、ITF:500℃ ■標準付属品 ・金属キャピラリーカラム ・EGAキャピラリー管 など ■その他の仕様 ・所要電源:...
メーカー・取り扱い企業: フロンティア・ラボ株式会社
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試料と触媒の気相接触反応による生成物の変化をリアルタイムに観測。様々な…
【仕様】 ■加熱分解炉部 ・温度制御範囲:40~900ºC(1ºC毎、冷却用圧縮ガス使用) ・インターフェース温度制御:40~400ºC(1ºC毎、定温制御) ■反応炉部 ・温度制御範囲...
メーカー・取り扱い企業: フロンティア・ラボ株式会社
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-196℃の低温トラップをGCオーブン内で達成!更に30%の窒素ガスの…
【仕様】 ■電源:100 VAC、0.5 A ■冷却達成温度:約-196 ℃(窒素ガス流量約7 L/min、GCオーブン温度40 ℃の場合) ■自動制御と温度モニター:EGA/PY-3030D、PY...
メーカー・取り扱い企業: フロンティア・ラボ株式会社
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