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    LNPの製剤開発からGMP製造までをサポートする多彩なツール

    PR製剤条件のスクリーニングからスケールアップ、GMP製造までをシームレス…

    弊社のLNPツールは、合成から特性解析までにかかる様々な手間と時間を軽減し、製剤化を加速化します。 【LNP合成】 ・Sunシリーズ:処方・製造条件スクリーニングからスケールアップ、GMP対応製造まで、同じポンプとマイクロ流路チップを使用してシームレスに実行・移行可能です。  ・Sunscreen:スクリーニングのために開発された装置。96種類の条件検討を完全自動で実行。  ・Sunshine:...

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    メーカー・取り扱い企業: Unchained Labs株式会社

  • 微量用デジタルディスペンサー【デモ受付中】 製品画像

    微量用デジタルディスペンサー【デモ受付中】

    PR精度と効率が必要なアッセイ作業にお困りですか?11 pL~10 μLを…

    Thermo Scientific Multidrop Pico 1 and Pico 8 Digital Dispenser は、専用の分注ヘッドカセットで分注する非接触分注方式のため、サンプルの取り違えやコンタミリスクもありません。 【特長】 ・試薬やサンプルのデッドボリュームを最大で10倍削減 ・手作業の希釈では10 分かかる作業を15秒で実現 ・qPCR ワークフローのスピード...

    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

  • 【分析事例】GaN基板の表面形状分析 製品画像

    【分析事例】GaN基板の表面形状分析

    AFMによるステップ-テラス構造の可視化

    ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム(GaN)は、パワーデバイスや通信・光デバイスなどの幅広い分野で用いられています。デバイスを作製するうえで、ウエハ表面の形状と粗さはデバイス性能に大きく影響します。GaNウエハを成長させる際、支持基板との格子不整合などによる応力の影響で、表面にステップ-テラス構造が形成されます。本資料ではAF...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 分析事例】XRDを用いた負荷印加前後における金属材の残留応力測定 製品画像

    分析事例】XRDを用いた負荷印加前後における金属材の残留応力測定

    非破壊で引張・圧縮応力を定量することが可能です

    力条件下に耐えられるかを調べる重要な方法の一つです。XRD(X線回折法)では、格子面間隔を測定することで残留応力を求めることが可能です。本資料では引張試験用にアルミニウム板の左右をV字加工した試料を作製し、引張試験用装置で引張負荷を印加する前後の残留応力の比較および、印加後の試料で残留応力の分布を確認した事例について紹介します。なお、残留応力値はsin2ψ法を用いて求めています。 詳しくは資...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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