• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 脱気システム Livalley 製品画像

    脱気システム Livalley

    気泡の原因を元から除去!既存プロセスに後付けするだけで溶存酸素を10p…

    半導体・電子部品、食品、医薬品、化粧品 業界の皆様からの問い合わせ多数! 通常の純水に溶け込んでしまう空気の成分である窒素、酸素のガス成分を減圧や気液分離方式で取り除き、コントロールすることにより減少させた脱気水を用いて、既存プロセスの歩留りを改善します。 ■特徴1:生産・検査・試験プロセスの歩留まり改善 液体に溶け込んでいるガス成分(窒素、酸素等)を高効率で除去、または供給することで液...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

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