• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 生産設備のパフォーマンス評価:AWB活用事例 製品画像

    生産設備のパフォーマンス評価:AWB活用事例

    MTBF/MTTFや実際の稼働情報から設備の稼働率を算出!新しい設備に…

    紹介致しました事例のような評価を行う場合、大きく分けて2つのステップに分けられます。 1.弊社による受託評価の実施 2.ソフトウェアの導入 評価を行う際にデータが足りない等のご相談を頂く事が多くございますが、そういった場合でもデータの不足を補う方法も含めて方法がございますのでお気軽にご相談下さい...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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