• アブソデックス(ABSODEX) AX1R/2R/4R・AXD 製品画像

    アブソデックス(ABSODEX) AX1R/2R/4R・AXD

    PR軸受けやブラケット等を別途設置する必要なく負荷をダイレクトに取り付ける…

    簡単にインデックステーブルの装置を作ることができるので、 設計工数と組立工数を削減し、生産設備のシンプル化と生産効率UPに貢献します。 【生産設備のシンプル化】 複数の部品を組み合わせて構成したインデックステーブルの機構をアブソデックス1つで置換え可能。 部品点数・設計工数の削減や、省スペース・センサレス・メンテナンスフリーなど、生産設備のシンプル化に貢献。 【フレキシブル動作】...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

  • 「ESCAによる多層膜の深さ分析」 事例集 製品画像

    「ESCAによる多層膜の深さ分析」 事例集

    光電子分光分析装置(ESCA)を使用した多層膜の深さ分析結果を掲載!

    、イオン注入、成膜・分析、研究・事業化マネジメントの サービスなどを提供している株式会社イオンテクノセンターの光電子 分光分析装置「ESCA」による多層膜の深さ分析の事例集です。 シリコン基板の上にシリコン酸化膜とチタン酸化膜の積層膜をESCA (Quantum-2000)によって分析した結果を掲載しております。 【掲載概要】 ■ESCAによる多層膜の深さ分析の分析結果 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • SiC 基板へのAl イオン注入深さ分析 製品画像

    SiC 基板へのAl イオン注入深さ分析

    SiC基板へアルミニウムをBOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介…

    SIMS(アルバックファイ:ADEPT-1010)によって、SiC基板へアルミニウムを BOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 SiC 基板は絶縁性が高いため、1次イオンビームを試料表面に照射すると 電荷が蓄積するため正確な測定が出来ません。そ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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