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ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステ…
除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。 キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭載しています。 低濃度環境下においても高い汚染物質除去性能を発揮するため、調清浄環境が要求されるプロセスの実現や光学系部品の汚染による性能低下の防止にも最適です。 【特長】 ○長寿命(LPSまたはBSMmaxフィルタ搭載) ○省スペース...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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