ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

『RSS-3×210-S』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ハイバーポンプ　Bシリーズ　CVタイプ（ステッピングモータ駆動）

低粘度材料、微少量吐出や高精度吐出に最適です。メンテナンスも容易！

これまで難しかった温度による材料の粘度変化、水頭差によるばらつきをクリア。メンテナンス性に優れ、管理の手間を省きます。 ・1～5,000cps程度の低粘度材料、0.02cc～20cc程度の微少量吐出や高精度吐出に最適 ・駆動部とコントローラが分離しているため、作業雰囲気から離れた場所で制御する事が可能 ※これらの精密定量ポンプ製品は、HIBARの技術ライセンスを基に製造されています。...

メーカー・取り扱い企業： ユニコントロールズ株式会社

ハイバーポンプ　Bシリーズ　RVタイプ（モータドライブ式）

中～高粘度材料の微少量・高精度吐出に適しています。メンテナンス性に優れ…

これまで難しかった温度による材料の粘度変化、水頭差によるばらつきをクリアしました。 ■B series RV（ロータリーバルブ）typeは、化粧品・食品・製薬業界などで30年以上にわたり幅広く使用されています。 ■5,000～50,000cps程度の高粘度材料、0.05cc～20cc程度の微少量吐出に適しています。 ※これらの精密定量ポンプ製品は、HIBARの技術ライセンスを基に製造...

メーカー・取り扱い企業： ユニコントロールズ株式会社