• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • KrosFlo KR2i RPM システム 製品画像

    KrosFlo KR2i RPM システム

    PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

    当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

    メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社

  • 分散材『TGパリックII』 製品画像

    分散材『TGパリックII』

    分散効果により流動性を促進!鋭敏性を持つ粘土に対して有効な塑性流動化材

    GパリックII』は特に高N値、高粘着性などの鋭敏性を持つ粘土に対して 有効とされる塑性流動化材です。 掘削より排出工程において低力学抵抗による減摩効果、自立性による不分離化 などの効果を低濃度領域において発現させることのできる画期的分散材です。 泥水シールド工法において、シルト・粘土層及びコラム掘削時における泥水の 著しい粘性上昇に対して粘性低下効果を持ち、余剰泥水の処分量を低...

    メーカー・取り扱い企業: テクニカ合同株式会社

  • 風による粉塵飛散を手間なく簡単に抑制!【ダストシャット】 製品画像

    風による粉塵飛散を手間なく簡単に抑制!【ダストシャット】

    作業性の向上に貢献する粉塵飛散防止剤!悪臭・害虫発生対策にも対応!

    ます。ダストシャットは、この問題を解決する、粉塵飛散防止剤です。 【特徴】 ■作業性の簡素化 ⇒特殊な機材を必要とせず、家庭用ジョウロや噴霧器等でも散布可能 ■粉塵の防止 ■水で希釈し濃度を変化させる事で、様々な飛散性粉体に使用可能 ■人体や環境に悪影響の無い、環境対応型製品 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: テクニカ合同株式会社

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