• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • KrosFlo KR2i RPM システム 製品画像

    KrosFlo KR2i RPM システム

    PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

    当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

    メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社

  • 気相式核酸分解・空間除染システム steriXcure 製品画像

    気相式核酸分解・空間除染システム steriXcure

    ドライガスにより雰囲気中・細胞中の核酸を微細断片化! 電子装置も、安…

    て失活化。 2.浮遊する病原体を空気と一緒に吸引しHEPAフィルター 捕集しながら失活化。 3.噴射された除染ガスが室内の浮遊病原体や環境に付着 した病原体を失活化。 ▢ 拡散性が良く、低濃度で残留のほとんどない運⽤であることから暴露後の 拭き上げ(エチルアルコール清拭)不要な運⽤が可能です。 気相式の除染ガス生成による滅菌システムで室温や湿度(⽔滴)による問題 を解消いたします。...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

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