• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • KrosFlo KR2i RPM システム 製品画像

    KrosFlo KR2i RPM システム

    PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

    当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

    メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社

  • 吸引式ハンドドライヤー『CRENA-FF』 製品画像

    吸引式ハンドドライヤー『CRENA-FF』

    水滴も雑菌も飛び散らない完全吸引式ハンドドライヤー【※「手洗い・乾燥の…

    モーター(電圧AC 100V単層):100Vブラシモーター(600W×2個) ■消費電力:1000W(12A)安定時 ■重量:27kg ■HEPAフィルター(SUS枠):〇 ■オゾン発生機(濃度0.04ppm程度 沿面放電式):〇 ■ヒーターライト:〇 ■乾燥室内LEDライト:〇 ■水受けトレー容量:1800cc(max) ■耐薬品性(次亜塩素酸水・中性洗剤で材質ダメージがない):...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社Air Labo

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