除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

【資料】高濃度揮発分含有ポリマーの脱揮技術

各種ポリマー製造プロセスへの適用が可能！高濃度揮発分含有ポリマーの脱揮…

当資料では、二軸押出機「TEX」を利用したポリマー中の高濃度揮発分を 直接除去する技術を紹介します。 当社は、多くの検証実験により各種ポリマー中に含まれるモノマーや 溶媒の脱揮技術を確立しています。 高濃度揮発分脱揮の主要技術をはじめ、装置構...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部

TEX水添加脱揮効果の紹介

高効率な揮発分除去と低温押出が同時に可能！水添加脱揮押出技術のご紹介で…

当社は、ポリマー中の揮発成分除去方法の一つに二軸押出機『TEX』を使用 した脱揮押出がありますが、年々厳しくなる残留揮発分濃度低減要求に対応 するため、水添加脱揮押出技術を開発しました。 脱揮助剤として水を注入することで、従来では達成できなかったレベル （残留揮発分濃度数+ppmあるいは数ppm）まで脱揮性能を高...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部