除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

【手指除菌エタノール75】〈アルコール濃度75％〉

手指消毒に、手に触れる場所（ドアノブ・デスク周りなど）の清掃に！ 安…

【主な特徴】 ・「 手指の除菌 」 、清掃用アルコールとして身の回りの除菌作業にご使用いただけます。 ・一番除菌効果が高いと推奨される アルコール濃度 70～82 ％（当社品濃度 75 に既に希釈 しており 、お手持ちのスプレーボトルに詰め替えてのご使用や、布巾等に染み込ませて直ぐに ご使用いただけます。 ・独自の保湿成分配合により、手指の保湿...

メーカー・取り扱い企業： 大成化工株式会社　分散・コーティング事業部 成田事業所

『　水性カーボンブラック分散体　CB-W7122　』

60℃環境下で3ヶ月経時後でも粒子径の変化や増粘無し！ 製品化後のつ…

【品名】CB-W7122（CB-W8122改良版）　 ・顔料濃度 　：20 ％ ・粘度　　　 ：5~20 mPa･s ・pH（25℃）：6.8~7.8...

メーカー・取り扱い企業： 大成化工株式会社　分散・コーティング事業部 成田事業所

溶剤系カーボンブラック分散液『T-NEX油性漆黒分散体シリーズ』

求める黒色度に合わせて各種グレードを用意！ 材料への高漆黒色の付与が…

様のご要望に応じて、カスタマイズ化(ご希望の溶媒系・樹脂系に合わせたり、分散度の調整)することができます。また、製品サンプルの提供も行っております 【特長】 ■高漆黒 ■透明性 ■高顔料濃度 ■カスタム性 ＊詳細はカタログ請求をしていただくか、ダウンロードからPDFをご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 大成化工株式会社　分散・コーティング事業部 成田事業所