キムテック ポラリスニトリル グローブ ※箱単位でサンプル進呈

PRキムテック史上最高レベルの保護性能と耐久性、人間工学に基づいた快適さを…

キムテック独自の高品質なニトリルを配合し、非常に柔らかく耐久性に優れています。 人間工学認証も取得し、長時間の作業でも疲労を軽減し、快適にご使用頂けます。 また、幅広い化学物質ならびに抗がん剤で耐性を試験済で安心して安全にご使用頂けます。 改正された労働安全衛生法（関係政省令）*に対応しております。 耐透過性評価試験のデータがございますので、必要に応じてお問合せください。 *『2...

メーカー・取り扱い企業： キムテック（Kimtech）・ビジネスユニット 旧キンバリークラーク・サイエンティフィックPPE事業部

表面改質技術『COT処理』※検証動画公開

PR医薬品・食品の付着防止と滑り性改善に。皮膜剥落による異物混入リスクがゼ…

『COT処理』は、独自の表面改質加工により、母材の表面に滑らかで微細な凹凸や、 マルチスケール構造を形成し、滑り性や離型性、洗浄性を高める技術です。 基材表面を改質する技術のため、皮膜剥落による異物混入リスクがなく、 用途に合わせて表面構造を高精度に制御でき、複雑形状品にも施工可能です。 金属、樹脂、セラミック、ガラスなど様々な素材に施工でき、 熱による変形・変色が懸念される薄板...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

前処理自動化システム「PAL RTC」

PAL RTCはさまざまなサンプル前処理およびサンプル調製の ご要望…

なサンプル調製や前処理作業を追加することが可能です。またはオートサンプラー機能は用いず独立したロボットとして作業を行うことも。 お客様ご希望のワークフローに合わせて必要なモジュール類を組み合わせた独自のシステム構成とメソッドをご提供いたします。 【特長】 PALで自動化可能なアプリケーション例 ■液液抽出 ■誘導体化 ■スタンダード調製 ■固相抽出 ■フィルターバイアルによるろ...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

ナノUHPLCカラム『Aurora Generation 3』

分離能・スループット・再現性が向上nanoZeroとエミッタ一体型構造…

『Aurora Generation 3』は、より多くのペプチドを結合できるようになり、 少ないサンプル量でも高分離能で優れた同定結果を得ることが可能な ナノUHPLCカラムです。 さらに独自設計の「nanoZero」デザインにより、デッドボリュームを除去し、 耐圧>1,700barの高耐圧も実現しました。 エミッタ一体型のカラムデザインは、異なるカラムや製造バッチ間でも より...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

大気圧イオンソース「SICRIT」

揮発性成分の高感度分析イオンソース LCMSに簡単接続、ppt感度の…

Plasmion社が開発した「SICRIT」は大気圧質量分析は初となるフロースルーソフトイオン化技術を有したイオンソースユニットです。MSの試料導入部に直接取り付け、独自形状のコールドプラズマを使用して導入部へ引き込まれた分子をイオン化します。プラズマは導入部直前で生成するため、透過率ひいては感度が大幅に向上します。LCおよびGCと接続が可能です。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

M3エミッター

先端のマルチノズルによりマイクロフローのスループットと高感度化を実現す…

当製品は、先端に8本もしくは5本のノズルをもつ独自設計の エミッターです。 単一のマイクロフローをマルチノズルで複数のナノフローに均等に 分割することで、イオン化効率を劇的に向上させ、堅牢性、 スループットを実現します。 1～40...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

LOTUS Emitter

疎水性コーティングによりメニスカスが内径に固定され、低電圧とイオン化効…

が施されている エレクトロスプレーエミッターです。 メニスカスは先端のエミッター内径部に固定され、蒸発が少なく 低電圧でイオン化効率が良く、より安定したスプレーを実現します。 また、独自の微細加工プロセスによる鋭角かつ非常に厳しい公差で 製造されたエミッター形状で安定したスプレーを生成する、 「Sharp Singularity Emitter」も取り扱っております。 【...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター