• 無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』 製品画像

    無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

    PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…

    当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • 第3回 国際発酵・醸造食品産業展に出展します 製品画像

    第3回 国際発酵・醸造食品産業展に出展します

    PR2024年7月30日(火)~8月1日(木)10:00~17:00、東京…

    「国際発酵・醸造食品産業展」は、【発酵食品】【醸造食品】にスポットを当てた専門展です。 当社も出展しますので是非足をお運びいただきますようお願い申し上げます。 招待コード:301490 【展示機械情報】 展示会では以下の製品を展示します。 【計量水切機】 一般的な水切機には無かった計量機能を新しく追加しました。 【ネット式水分離機】 原料のシャワー洗浄と吸引脱水により、汚れや糠を残さずに水...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジワラテクノアート

  • ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

    Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D 製品画像

    【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

    「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

    Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

    代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン

    カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

    代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、  高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

    基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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