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28件 - メーカー・取り扱い企業
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PR内部に大型の実験装置や機器を組込めるウォークインタイプのドラフトチャン…
『ウォークインタイプ DFW型』は、多田製作所社製のドラフトチャンバーです。 ドラフトチャンバー内部は床面より十分な有効高さを持っていますので、 フード内に大型の装置や機器を組み立てたり、外部で組み立てた装置を フード内に移動させることも容易に行えます。 独自の気流設計により床面に発生するガスもスムーズに排気されます。 オールステンレス製や防爆仕様等、ご要望に応じた設計が可能です...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社多田製作所
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無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』
PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…
当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社
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【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP
Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D
「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理
Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…
代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析
Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン
カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン
Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理
代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…
基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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PR
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第3回 国際発酵・醸造食品産業展に出展します
2024年7月30日(火)~8月1日(木)10:00~17:0…
株式会社フジワラテクノアート