• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • テカンは第97回日本生化学会大会へ出展します 製品画像

    テカンは第97回日本生化学会大会へ出展します

    PR会期中にブースにてアンケートに回答してくださった方にテカングッズをプレ…

    第97回日本生化学会大会 日程:2024年11月6日(水)~8日(金) 場所:パシフィコ横浜ノース テカンブース:No.5~6 <展示内容> ■小型シングルセル自動分注機 Uno Single Cell Dispenser 面倒な機器のセットアップ必要なし、専用カートリッジですぐに分注可能。 ■卓上型微量分注デジタルディスペンサー D300e アッセイに必要な量のサンプ...

    メーカー・取り扱い企業: テカンジャパン株式会社

  • 水素原料『シルク水素パールパウダー』 製品画像

    水素原料『シルク水素パールパウダー』

    溶存水素量が高濃度!長時間継続可能な水素原料

    『シルク水素パールパウダー』は、水素ガス・水素イオンの双方発生させる ハイブリッド水素原料です。 多孔質構造を持つシルクパウダー、海洋深層水ミネラル、水素との コラボレーションを実現させ、真珠貝由来ハイドロキシアパタイトに 独自の水素加工を施しております。 【仕様】 ■溶存水素量:長時間継続・高濃度 ■96時間後(4日後):1286ppb ■酸化還元電位:-270mV ■...

    メーカー・取り扱い企業: 炭プラスラボ株式会社

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