半自動液体充填機 KC-W-20SKVG

PR新型指示計搭載で使いやすさと拡張性を大幅に向上！

発泡性や粘度のある液体にも対応する、１８L缶、バッグインボックス、ペール缶などの容器へ定量充填可能な非防爆型液体充填機です。 搭載指示計を刷新し、充填精度はそのままに、Wi‐Fi無線ユニットを標準装備する等、使いやすさと拡張性を向上させました。 ステンレス製ケースでIPX5の防水性能を備えており、水を扱う現場で安心してご使用いただけます。また、過不足充填を防ぐことが可能なため、飲料･調味料･油脂･...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

対象物がドライフィルムとポジレジストの レジスト剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 　添加することにより、レジストの剥離が容易 ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

ケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能です。 【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能 ■容量・荷姿は20kg缶～ローリーをご用意 ■フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤 　として効果的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

スト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 　添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温～50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

■処理条件 ・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所