除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】

液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

【30日間レンタル・61,000円～】 　弊社では本製品のレンタル取次ぎサービスを行っております。 　御希望の方はお問合せフォームから御連絡願います。 　追って担当者から御連絡差し上げます。 　（レンタル時には利用約款への同意が必要です。） 『RKE1500B1-V-G2』は、30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で 温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ニッシン産業株式会社

冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】

周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

【30日間レンタル・154,000円～】 　弊社では本製品のレンタル取次ぎサービスを行っております。 　御希望の方はお問合せフォームから御連絡願います。 　追って担当者から御連絡差し上げます。 　（レンタル時には利用約款への同意が必要です。） 『RKE3750B-V-G2』は、業界トップクラスの省エネ性能を実現している 冷却水循環装置です。 冷凍機・ファン・ポンプもインバータ...

メーカー・取り扱い企業： ニッシン産業株式会社

冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』

周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

『RKE3750B-V-G2』は、業界トップクラスの省エネ性能を実現している 冷却水循環装置です。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ...

メーカー・取り扱い企業： ニッシン産業株式会社

冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』

液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

『RKE1500B1-V-G2』は、30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で 温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度...

メーカー・取り扱い企業： ニッシン産業株式会社