除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

新訂三版　最新吸着技術便覧　～プロセス・材料・設計～

◇吸着プロセス、各種各社吸着材、吸着装置の設計・操作を網羅 ◇幅広い…

◇吸着技術の大著　21年ぶりの大改訂！ ◇業界地図大変動に対応 ...「新訂三版　最新吸着技術便覧～プロセス・材料・設計～」 ■体裁：B5判 856頁 ■定価：65,000円＋税 ■監修：竹内 雍 ■発行：エヌ・ティー・エス 1編 吸着を利用した各種のプロセス 2編 吸着材 3編 吸着プロセスの解析と設計...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エヌ・ティー・エス