除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

紫外線全域遮断資材『プラズマコート ナノ粒子』

化粧用としての実用化を阻む光活性酸素発生を抑制した紫外線全域遮断資材！

当社では、上智大学小駒研究室が開発したプラズマ粉体処理装置により 生成される高分散性の紫外線全域遮断資材『プラズマコート ナノ粒子』を 取り扱っています。 二酸化チタン超微粒子をプラズマ気流中で極めて薄い酸化鉄膜で 覆うことにより、二酸化チタンの持つ紫外線遮断域を拡大すると共に 分散性を高めました。 紫外線防止用コーティング材や紫外線防止領域以外の用途が 期待できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 紅不二化学工業株式会社