【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電…

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。 メッキ浴　鍍金浴...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社