メトロームジャパン株式会社 【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
- 最終更新日：2023-03-07 11:13:01.0
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半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化
酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。
塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。
しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。
メッキ浴 鍍金浴
基本情報【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
メトロームの自動滴定装置を使用して酸性銅めっき浴の塩化物イオン濃度を測定することで、品質管理を自動化できます。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | 滴定による界面活性剤の定量 |
| 用途／実績例 | 小冊子は無料ダウンロードできます。 |
詳細情報【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
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OMNIS滴定システム
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カタログ【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
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● 電位差自動滴定装置 ● カールフィッシャー水分計 ● イオンクロマトグラフ ● 近赤外分光分析計 ● ラマン分光計 ● pH計 導電率計 ● イオン計 ● 酸化安定性試験装置 ● ボルタンメトリー（VA） ● CVS分析計 ● 電気化学測定装置（ポテンショスタット/ガルバノスタット） ● プロセス分析計（滴定、水分、NIR、ラマン、イオンクロマトグラフィ、吸光度、CVS、VA） 【装置は3年間保証】 【アクセサリ/消耗品は製造終了後10年間保証】 【ソフトウェアは装置製造終了後5年間サポート保証】 【アニオンサプレッサは10年間保証】
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