テカンはインターフェックスへ出展します！

PR医薬品・化粧品の研究・製造に関わる製品・技術・サービスが出展する最大級…

インターフェックスWeek 2024　ファーマラボEXPO 出展 日程：2024年6月26日（水）～28日（金）10:00～17:00 場所：東京ビッグサイト https://www.interphex.jp/tokyo/ja-jp.html ファーマラボEXPOのラボオートメーションゾーンへ出展します。 以下の製品を紹介いたしますので、ぜひお越しください。 ・自動分注機Fluen...

メーカー・取り扱い企業： テカンジャパン株式会社

中分子（オリゴ核酸・ペプチド）原薬の受託開発製造（CDMO）事業

PR充実の設備と高い技術力で開発段階に応じた好適なCDMOサービスを提供！

≪日本触媒は中分子（オリゴ核酸・ペプチド）原薬の供給を通じ、人々の健康と医療を支え、社会の未来に貢献します≫ 当社は中分子（オリゴ核酸・ペプチド）原薬を製造し、 お客様のご要望に基づいた品質の製品を確実にかつ迅速にご提供いたします。 ◆「3つの要素」で、充実の原薬受託開発製造（CDMO）サービスをご提供◆ 　１．合成技術・設備　（日米欧三極GMP，PIC/S GMP準拠プラント保有　※GMP出荷...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本触媒

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

【処理条件】 ■濃度：0.5～1％ ■温度：常温 ■時間：10～60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶／180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所