• ノンフロン横型超低温フリーザー『TDE超低温フリーザー』 製品画像

    ノンフロン横型超低温フリーザー『TDE超低温フリーザー』

    PR新たにUSBデータダウンロード機能が搭載され、頻繁な入庫や長期保管用途…

    H-Driveシステムを搭載したThermo Scientific TDEシリーズ横型超低温フリーザーは、-50 ℃から-86 ℃の範囲で温度設定でき、ドア開放後の迅速な温度回復とピーク変動に対する優れた保温機能の組み合わせにより、頻繁な入庫や長期保管用途に適しています。 【パフォーマンス】 H-driveノンフロン技術を搭載した新しい横型超低温フリーザーは、従来の代替フロン冷媒を使用した機種よ...

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    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

  • シングルセル解析の新しいソリューション 製品画像

    シングルセル解析の新しいソリューション

    PR今まで見落としていた細胞内シグナル伝達をシングルセルレベルで解析可能

    InTraSeq (Intracellular Protein and Transcriptomic Sequencing) は、RNA量だけでなく、細胞内および細胞表面の両方のタンパク質を同時検出できる、シングルセルレベルのシグナル伝達経路の解析が可能な新たな技術であり、10x Genomics社のSingle Cell 3’ Reagentキットに対応します。 ※詳しくはPDFをダウンロード...

    メーカー・取り扱い企業: セルシグナリングテクノロジージャパン株式会社

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

    フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

    20kg缶と200kgドラムをご用意!ドライフィルムとポジレジストのレ…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 防・除錆剤『アンラスト CK』 製品画像

    防・除錆剤『アンラスト CK』

    常温下、短時間の処理で運用が可能!銅、銅合金の変色防止に適しています

    【処理条件】 ■濃度:0.5~1% ■温度:常温 ■時間:10~60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M10』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M10

    浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

    『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

    鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ・温度:50~110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト F』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

    剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶/180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

    キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

    20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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