• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • 精密流量計測用 高精度流量計 製品画像

    精密流量計測用 高精度流量計

    精密流量計測が可能に!

    ガス・真空・低温機器供給のR&D 川口液化ケミカル社が取扱う「高精度流量計」のご紹介です...【特徴】 ■流体名 : Air,N2,O2,H2,He,Ar,CO2 ■流量レンジ:0.5〜5ML/minから3〜30L/min ■精度:FS ±2%(計測ポイント) ■耐圧  ・100ML/min以下 1.0Mpa  ・5L/min以下 0.7Mpa  ・10L/min以下 0.5...

    メーカー・取り扱い企業: 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

  • 高圧用 汎用型アナログマスフローコントローラー 5850E 製品画像

    高圧用 汎用型アナログマスフローコントローラー 5850E

    半導体ウエハプロセス、LCDプロセス、光ファイバプロセス、一般研究用な…

    コストパフォーマンスを徹底追及した、アナログマスフローコントローラ...【特徴】 ■汎用ガスラインに最適 ■メーカー:ブルックスインスツルメント株式会社 ■仕様:精度±1% F.S. 応答性3秒以内(F.S.±2%到達) ■ガス種:ご注文時にご指定 ■流量範囲:フルスケール 30mL/min〜30L/minでご注文時にご指定  フルスケールが10〜100L/min対応モデルの5851...

    メーカー・取り扱い企業: 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

  • 高圧用 スマートシリーズマスフローコントローラ SLA5850 製品画像

    高圧用 スマートシリーズマスフローコントローラ SLA5850

    アナログとデジタルの両方のインターフェイスを搭載

    特徴的なバルブ構造により 30MPaまでの超高圧仕様にも対応可能な、マスフローコントローラ...【特徴】 ■ナログインターフェイス:0〜5V、4〜20mA ■デジタルインターフェイス:RS485(HARTベース) ■オプションでDeviceNet、FOUNDATION Fieldbusにも対応 ■メーカー:ブルックスインスツルメント株式会社 ■仕様:精度 ±1.0%R(20〜100%F...

    メーカー・取り扱い企業: 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

  • 精密流量計測制御用 精密ニードル弁付流量計 製品画像

    精密流量計測制御用 精密ニードル弁付流量計

    精密流量計測制御用に最適

    ガス・真空・低温機器供給のR&D 川口液化ケミカル社が取扱う「精密ニードル弁付流量計」のご紹介です...【特徴】 ■流体名:Air,N2,O2,H2,Ar,CO2 ■流量レンジ:0.5〜5ML/minから3〜30L/min ■精度:FS ±2%(計測ポイント) ■耐圧  ・100ML/min以下 1.0Mpa  ・5L/min以下 0.7Mpa  ・10L/min以下 0.5...

    メーカー・取り扱い企業: 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

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