除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

窒素ガス発生装置『AT-HPN1000』

安全性と操作性を重視したデザインです。

『AT-HPN1000』は、独自のPSAドライヤーを用い、より効率よく酸素を 取り除くことが出来るPSA方式の超高純度窒素ガス発生装置です。 本装置は、GCのキャリアガスをはじめとする、超高純度窒素ガスを 必要とする分析装置のために開発されました。 分析装置のガス要求に確実に応える性能、手軽なサイズ、安全性と 操作性に優れたデザインは皆様の研究室環境のサポートをします。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エアーテック

水素ガス発生装置『HK-Plusシリーズ』

FID、FPD検出器に必要な高純度水素ガスの供給源に最適！

『HK-Plusシリーズ』は、純度99.999％以上の水素ガスを安定供給し、 燃焼用ガスとして最適な高純度水素ガス発生装置です。 コンパクトサイズ、メンテナンスフリーのドライヤーシステム、手軽に、 安全に高純度水素を発生させることが可能です。 HC 0.1ppm以下の高純度水素ガスを発生させるため、本装置で作られた GCのベースラインは非常に低く安定しています。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エアーテック