除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

VOCs99％除去！ 排気処理技術『FP法』

トルエン・キシレン等のVOC を高効率回収！悪臭対策にも最適！流機エン…

率を実現 【FP法関連の特許】 特許番号5317885　ガス処理装置　 特許番号5732204　脱臭装置及び脱臭方法 特許番号6140326　揮発性有機化合物の吸着材の再生方法 特願2018-108026　脱臭設備及び脱臭方法 当社では、サンプルテスト ⇩ デモ機による試験 ⇩ お客様の用途に応じたふさわしい装置を カスタマイズしてシステム提案いたします。 排気VO...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社流機エンジニアリング