• 無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』 製品画像

    無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

    PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…

    当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

    浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

    『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法:毒物 ※詳しくはPDF資...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.2C』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

    水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です

    『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト F』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

    剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

    『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に  添加することにより、アルカリ単体では困難な微細...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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