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ナンバリングアップで量産フロー検討「集積型マイクロリアクター」
PR各種反応や混合を内部ナンバリングアップにより流量増大 閉塞回避構造…
集積型マイクロリアクターラインアップ ◇2x2タイプ AB各流路4流路 ~500ml/min ◇4x4タイプ AB各流路16流路 ~1.5L/min ◇8x8タイプ AB各流路64流路 ~3L/min 集積型マイクロリアクターの特徴 ◆コンパクトサイズ ◆分解洗浄可能 ◆最大数3000ml/minの処理能力 ◆液-液、気-液、気-気混合にも対応 ◆再結晶にも応用可能 ◆...
メーカー・取り扱い企業: マックエンジニアリング株式会社
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紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 展示会出展7/30~
PR第3回 国際発酵・醸造食品産業展にぜひご来場ください 紫外線(UV)殺…
東芝ライテックでは食品・飲料の製造をはじめ、様々な用途の水処理で活躍する、 紫外線ランプを搭載した『水殺菌装置』をラインアップしています。 装置の種類が豊富で、様々なシーンに適用可能です。 装置は、幅広いテストを経て、厳格な検証・認定試験にも合格した 信頼性や品質の高いものばかりを取り揃えています。 【UVを使用した水処理のメリット】 ■熱や化学薬品を使わずに殺菌が可能 ■設...
メーカー・取り扱い企業: 東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部 UV水殺菌システム部
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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法:毒物 ※詳しくはPDF資...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに2~5%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他の特長】 ■対象...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…
『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』
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株式会社トラステック愛知 本社 -
紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 8/21~展示会出展
【国際水産養殖技術展2024出展】紫外線(UV)技術は、細菌、…
東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部 UV水殺菌システム部