除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

超小型減圧弁　RG3・NR-50-M5

優れた圧力特性を維持したまま、業界最小・最軽量クラスを実現した小型レギ…

藤倉コンポジットは、圧力特性に優れた省スペースの超小型減圧弁「RG3.NR-50-M5」の販売を決定いたしました。 親指程度のサイズに設計されたこの革新的な製品は、極めて狭いスペースへの設置を可能にし、装置の大幅な省スペース化を実現します。特に流量5L/min以下の領域において優れた性能を発揮し、医療機器、分析機器、産業機器、設備機器、卓上装置など、幅広い分野での活用が期待されます。 藤倉コン...

メーカー・取り扱い企業： 藤倉コンポジット株式会社

SUS製 液体減圧弁 　RF-S シリーズ

接液部がSUS316、316(L)、FKM、POMなので、様々な液体に…

『RF-Sシリーズ』は、様々な液体に対応できるような材質構成の 液体用レギュレータ(SUS)です。 【特徴】 ● 高い耐腐食性 　 ・接液部：SUS316、316(L)、FKM、POM 　 ・コンパクトサイズ ● グリスレス 　 ・接液部にグリスは不使用 ● 禁油仕様 　 ・禁油室での組み立て ●低コストを実現 【仕様】 ■型式：RF-S-4-2 ■使用流体：非腐...

メーカー・取り扱い企業： 藤倉コンポジット株式会社